순도 높은 산화 알루미늄 (고순수성 알루미나, HPA)전자, 광학, 도자기 재료 등 분야의 관건적인 기초재료로서 그 순도와 입경 분포에 대해 일정한 요구가 있다.최종 용도에 따라 순도는 일반적으로 달성해야 합니다.99.99%이상, 심지어 달성5N의 (99.999%)수평현재 산업에서 널리 사용되는 제조 방법은 다음과 같습니다.화학 침전법와용접-겔법 (솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔)그리고 이 두 공정 과정 중 여과, 세척 및 건조 단계는 제품의 순도, 입경의 통제 가능성과 형상의 완전성을 확보하는 관건적인 단계이다.

1. 공예배경: 화학침전법제비 고순도산화알루미늄

화학 침전법에서는 일반적으로 알루미늄 소금 (예:AlCl₃、Al(NO₃)₃또는 이소프로필알루미늄)을 전구체로 암모니아수나 탄산염을 첨가하여 침전 반응을 하여 생성한다알(OH)₃젤.그런 다음 충분히 세탁하여 제거합니다.Cl⁻、NO₃⁻등 잡이온, 최종 건조 및 단소γ-Al₂O₃또는α-Al₂O₃가루.이 방법 은 순도 가 높다99.99%이상이지만 공정 절차가 비교적 길고 조작이 복잡하며 설비의 밀폐성과 청결도에 대한 요구가 높다.

2. 3합일 설비의 기술적 우위와 접점

우리 회사는 자체 연구 개발하여 제조하였다.여과 세척 건조 삼합일 설비 (진동된 Nutsche 여과기 건조기, ANFD)순도 높은 산화 알루미늄 제조에서 이러한 복잡하고 정교한 프로세스를 위해 설계되었습니다.다음과 같은 이점이 있습니다.

1. 시스템을 밀폐하여 불순물의 재오염을 방지하다.

전체 여과, 세척, 건조 과정이 밀폐 용기에서 연속적으로 완료되어 고순도 재료에 대한 외부 환경의 오염 위험을 크게 낮추고 전자급, 광학급을 만족시킨다HPA는의 청결 요구.

2. 정확한 세탁으로 이온 잔류 제거 효율 향상

설비는 하단 여과판과 다방향 교반 장치를 갖추어 침전물의 동적 세척을 실현하고 효과적으로 제거할 수 있다Cl⁻、NO₃⁻등 잔여 잡이온으로 제품의 저항률과 투명성을 높인다.

3.진공 건조 기능, 완전한 재료 구조 보호

세탁을 완료한 후 직접 진공 건조 단계로 넘어갈 수 있으며, 전통적인 공정에서 재료 이전으로 인한 손실이나 집결 현상을 피할 수 있으며, 동시에 열에 민감한 재료가 고온에서 구조 파괴의 위험을 줄일 수 있다.

4. 자동 제어, 배치 안정성 향상

3-in-1 장치 지원PLC는제어 시스템, 온도, 교반 회전 속도, 압력 등 핵심 매개 변수의 자동 제어와 기록을 실현할 수 있으며, 배치 간의 공정 일치성을 확보하는 것이 실현이다HPA는생산 자동화, 지능화의 중요한 설비 기초.

3. 공정응용설명 (결합솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔법)

에서솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔솔법중, 알루미늄 알코올 소금과 물/알코올 용매는 반응하여 투명 용매를 생성하고, 다시 겔화하여 마른 젤로 만들며, 여과를 통해 용매 잔류와 불순물을 제거하고, 최종적으로 건조하고 단소하여 나노급 고순도 산화 알루미늄 파우더를 얻는다.이 방법은 고비례 표면적, 특수한 형태의 나노산화알루미늄을 제조하기에 적합하다.

이 프로세스에서 3-in-1 장치를 처리하는 데 사용합니다.

l젤의 낮은 절단 여과

l반복 세탁로유기적 잔류를 제거하다.

l진공저온건조건조하다로보증형태 구조 보호

입경 제어, 형상 조절과 순도 제어에 대한 협동 향상을 실현하였다.

재료 산업의 발전에 따라 순도 높은 산화 알루미늄의 시장 수요가 지속적으로 증가하고 있습니다.전통적인 다단계 분체 공예는 이미 현대 제조의 효율, 품질과 청결도에 대한 전면적인 요구를 만족시키기 어렵다.우리 회사의 여과 세척 건조 삼합일 설비는 밀폐, 안전, 연속, 자동화의 장점으로 이미 여러 곳에 있다HPA는생산기업에서 성공적으로 응용된것은 정밀재료제조공예승격의 중요한 추진력량으로 되였다.