플라스마 폐기 정화 설비

장치 소개

저온 플라즈마 기술은 최근에 발전된 폐기 처리 신기술이다. 저온 플라즈마가 폐기를 처리하는 원리는 추가 전압이 기체의 방전 전압에 도달하면 기체가 뚫려 전자, 각종 이온, 원자와 자유기를 포함한 혼합체를 생성하는 것이다.저온 플라즈마가 오염물을 분해하는 것은 이러한 고에너지 전자, 자유기 등 활성 입자와 배기가스의 오염물 작용을 이용하여 오염물 분자가 매우 짧은 시간 내에 분해되어 오염물을 분해하는 목적을 달성하는 것이다.

작동 원리

우선 배기가스가 균류판 여과면을 거쳐 설비에 들어갈 때 설비의 고압으로 고주파를 안정시켜 방전하면 순식간에 1만 5000볼트~2만볼트의 고압이 발생하여 배기가스를 뚫는다.이 단계에서 긴 체인, 다중 체인 배기가스 분자는 키 에너지가 약하기 때문에 구속력이 비교적 작다.화학 키를 뚫고 파열되어 소분자 화합물로 변하기 쉬우며, 이는 단계 정화이다.

둘째, 배기가스를 따라 설비에 들어가는 물 분자, 산소 분자가 고압에 뚫려 끊어져 강한 산화기단인 히드록시, 오존 분자 등을 생성한다.이런 강산화기단은 페기분자와 충분히 접촉하여 산화되여 반응진척을 가속화한다.전체 반응이 깨끗하고 철저하며 에너지 이용률이 높고 정화 효율이 매우 높다.

플라즈마 기능 세그먼트는 오염물 에너지를 자극하여 긴 사슬, 다중 사슬 오염물 분자의 분자 키가 끊어지고 재조합되도록 촉진하여 처리하기 어려운 오염물을 비교적 처리하기 쉬운 저탄소 오염물로 분해시킬 수 있다.

플라즈마 화학 반응 과정은 대체로 다음과 같습니다.

이상의 반응과정에서 알수 있다싶이 전자는 먼저 전장에서 에네르기를 획득하고 격발이나 이온화를 통해 에네르기를 오염물분자에 전이시킨다. 에네르기를 획득한 오염물분자는 격발되고 동시에 일부 분자는 이온화되여 활성기단이 된다.그런 다음 이러한 활성 기단과 산소, 활성 기단과 활성 기단 사이에 서로 충돌하여 안정적인 산물과 열을 생성합니다.

또 고에너지 전자도 할로겐과 산소 등 전자친화력이 강한 물질에 포획돼 음이온이 된다.이런 종류의 음이온은 매우 좋은 화학 활성을 가지고 있으며, 화학 반응에서 중요한 역할을 한다.

플라즈마 기술의 장점:

매체가 방전을 막아 발생하는 저온 플라즈마에는 전자 에너지가 높아 거의 모든 악취 가스 분자와 작용할 수 있다.

반응이 빨라서 기속의 제한을 받지 않는다.

부식방지재료를 채용하여 전극이 페기와 직접 접촉하지 않아 설비의 부식문제를 근본적으로 해결하였다.

전기만 사용하면 조작이 극히 간단하여 전문인원을 파견하여 간수할 필요가 없으며 인건비를 거의 점용하지 않는다.

설비의 가동, 정지는 매우 신속하고 사용에 따라 켜지며 기온의 영향을 받지 않는다.

공기 저항이 적고 공예가 성숙하다.