재몽테크놀로지가 당신을 초청합니다2025년 정밀 연마 광택 재료 및 가공 기술 발전 포럼

<재몽과학기술>

2025년7달24-25일 동관 쉐라톤 호텔에서 개최2025년 전국 정밀 연마 광택 재료 및 가공 기술 발전 포럼(제3회)이번 포럼은 산업사슬의 상하류기업, 과학연구원과 업종투자기구 등을 초청하여 둘러싸고광택을 정밀하게 연마하는 연마재 제조 기술, 공예 혁신, 투장비 연구 개발과 산업화 응용등 방면에서 특정문제교류를 진행하여 중국의 정밀제조를 한단계 더 발전시키는데 기여하였습니다.

반도체 집적회로, 의료기기, 항공우주 등 산업이 끊임없이 발전하고 업그레이드됨에 따라 핵심 정밀부품의 표면 조잡도와 면형 정밀도에 대한 요구는 이미 나노미터 심지어 원자급에 도달했다.정밀 연구와 광택은 정밀 부품의 신뢰성과 정확성에 영향을 주는 핵심 후방 과정이며, 정밀 연마 광택 기술은 재료 연구 개발에서 공정 혁신에 이르는 전면적인 혁신을 겪고 있다.

큰 입자 연마재는 웨이퍼 표면에 스크래치가 발생하여 전체적인 품질 저하를 초래합니다.CMP는광택액은 가능한 한 큰 입자의 수를 줄일 것을 요구하는데, 자몽과학기술에 있어서 이번 교류회는 전시이다테스트 방법CMP는광택액 중의 큰 알갱이좋은 기회.

회의에서 자몽과학기술도 모두에게 제공할 것이다LPC는대입자 계수 시스템,CMP는평탄화 입도, 입형 분석 기술, 정밀 맞춤형 반도체 대입자 솔루션.

Ø LPC는대용량 입자 계수 분석기 /ZM-02는

제품 설명:

대입자 계수 분석기는광저항법원리설계 생산의입자 카운터, 주요 기능은테스트CMP 슬러리약액 중의 과립 수량등, 예를 들면 이산화규소, 산화세륨, 산화알루미늄 등의 약액.ZM-02는제품 요구사항에 따라 채널 입자 수 (예:1μm、2μm、5μm기다려.

기술적 특징:

ü 테스트 방법:오프라인 또는 온라인

ü 데이터 채널:1024개

ü 사용자 지정 채널:64개

ü 최대 데이터 농도1x 10의

ü 광범위한 테스트 범위,0.5μm - 400μm

ü 업그레이드 및 유지 보수를 위한 모듈식 설계

ü 완전 자동 샘플링, 자동 희석, 자동 검사, 자동 세척, 데이터 분석

점도가 높은 샘플의 경우대입자 계수 분석기ZM-0은2원클릭식 조작을 실현할 수 있고, 펄프 중 위험이 높은 큰 입자를 빠르게 식별할 수 있으며, 인공 희석 조작이 필요 없고, 측정 오차를 줄일 수 있으며, 인공 세척도 필요 없어 검측 효율을 크게 높일 수 있다.

Ø CMP 입자 분석기/M3000

제품 설명:

입형 분석기는 동적 영상법 원리를 이용하여 설계 생산한 입자 계수기로, 그 주요 기능은테스트CMP 슬러리약액 중의 과립 수량, 과립 모양, 서로 다른 모양의 과립 수량 농도등, 예를 들면 이산화규소, 산화세륨, 산화알루미늄 등의 약액.

서로 다른 모양의 입자는 광택 효과와 양률에 뚜렷한 차이가 있는데, 입자형의 제어는슬러리생산 과정에 제어가 필요한 중요한 매개 변수.

기술적 특징:

ü 테스트 방법:오프라인 또는 온라인

ü 전자동 희석, 인공 희석 불필요

ü 사용CMP 슬러리중입자 농도 검사

ü 최대 데이터 농도1x 10의9 / ml

구형도 데이터

톤 데이터

입형 분석기3000 유적용 대상CMP는광택액 생산기업이"구형도","둔도"등 매개변수에 대한 관리통제는 펄프의 형상크기를 직접 관찰할 수 있고 생산공정을 효과적으로 조정할 수 있어 제품의 품질과 생산효율을 높일 수 있다.미래의 정밀 연마 광택 분야에서 입형 분석기M3000은기업이 시장에서 더욱 유리한 지위를 차지하는 데 도움을 줄 것으로 기대된다.

결어

자몽과학기술은 완벽한 애프터서비스 체계를 구축하여 고객에게 다방면의 지원을 제공한다.기기의 설치 디버깅, 조작 교육, 후속 수리 정비, 기술 업그레이드를 막론하고 모두 전문적인 팀이 제때에 응답하고 처리하여 반도체 기업에 제공한다정밀 맞춤형 반도체 대입자 솔루션。